1、长春光机所。国内顶级光学科研机构，8848峰一样的存在。长光所致力于研发高功率EUV的光源和高精度（镜面不平整度低于1nm，非球面），大视野（一次曝光大于1mm^2）的反射式镜组；2、上海微电子所。国内领衔研究全套光刻机设备的专业机构，包括DUV和EUV配套的外围技术，28nm DUV据说年底量产。3、华为研发EDA，14nm去年可用。买断Arm8，从m60开始使用自研玄武架构。 4、国内企业配合研究光刻胶已然突破。5、中芯国际用多重曝光技术使DUV光刻机7nm量产。还有哪些承担重大使命取得了突破单位和机构？欢迎补充，没有公开资料报道的不要提了。

网友:我每天都在加班研磨超高精度的球面镜，目前已用破十几双手套了。每天都在调制光刻胶，高筋面粉用了差不多三袋了，502胶水也用了快二十管了，我感觉很快就成功了！​网友:最重要的你没说，华为被美国制裁后，在芯片全领域大规模投资和并购，已经拥有巨大的产能和全产业链整合能力，未来大家可以随便想象。