光刻机又被限制了。在6月30日荷兰正式宣布了，对先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。这一次荷兰的限制，不仅仅有原本EUV高端光刻机，还有DUV光刻机的出口也受到了限制。

继日本之后，荷兰也正式宣布了，外媒表示结束了。

在《瓦森纳协定》下，荷兰的EUV光刻机的出货受到了限制。这对于我国来说，EUV光刻机的缺失会导致我国先进制程芯片无法推进。 而美国再次给限制加码了，联合日本以及荷兰签订了“三方协议”，对半导体设备的出口进行了管制，没有给出具体的方案和时间，而随着日本和荷兰的官宣，情况也已经非常明了。

荷兰ASML公司对于中国市场多次示好，表示进入中国市场是必要的，还要为我国提供更多的光刻机。之前有消息表示，ASML还有未交付的订单，金额超389亿欧元，其中国内的订单占比未20%，相当于600亿元。

如果以这个金额的话，可以推算出，ASML还有150台光刻机还没有交付。这一次荷兰的新规中，对TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统进行了限制，那么有外界表示，这些未交付的订单，在新规的影响下，不知道能否正常交付。

荷兰ASML积极申请为中国市场出货，而靴子落地，ASML也不得不照办。所以外媒表示结束了，ASML 的这场“闹剧”该结束了。

在芯片受到限制之后，全球半导体行业就受到影响，市场出现了“降温”。不少半导体企业的营收下滑，订单量减少。这也是ASML之后积极主动示好中国市场的原因。

对于ASML来说，虽然凭借着在光刻机制程工艺的领先，斩获了大量的订单，但是随着芯片市场寒气逼来，就连台积电都砍掉ASML的EUV40%订单。

加上我国也在光刻机市场发力，即便达不到领先的制程工艺，但是已经能够量产90nm的光刻机，造这种趋势下，我国很快就能够在中低端市场实现自足。所以ASML表示为前景感到担忧。

随着限制进一步的升级，这将会加快我国自研的脚步，所以半导体行业又要掀起风浪了。首先是，全球半导体行业在限制下，可能又要面临“寒冬”。包括ASML在内，在国内市场的份额肯定会下滑。

要知道我国是全球最大的半导体消费市场，所以限制我国半导体制造设备，也会让全球半导体行业面临动荡，增加不稳定性。

其次，就是我国加速自研，实现自给自足。在美方开启“芯片禁令”之后，我国就确定了一个目标，那就是坚持自研，走国产化的道路。在光刻机领域，我国已经攻克28nm技术了，中芯国际能够量产14nm工艺，并且突破了N+1工艺等。

华为也联合了国内厂商，突破了14nm以上EDA工具国产化。华为还在操作系统、软硬件、5G等多方面，都取得不错的成绩。虽然对于我国来说，限制会让我国目前半导体行业受到限制，但是待到我国实现突破的时候，那么局面就完全不一样了，限制反而成为推动我国半导体行业发展的助推器。

而全球半导体行业，也在这动荡的环境下，接受大洗牌。

所谓的物极必反。任正非之前所说的一句话，原本让用的，有一天突然不让用了，那么我们就自己造。就以华为来说，谷歌的断供，华为有了鸿蒙系统，还有ERP、数据库、零部件等等，华为都逐渐摆脱了垄断的局面。

与此同时，国产厂商也在助力“中国芯”，除了从传统芯片发力，还想要另辟蹊径，比方说量子芯片、光电芯片上研发，想要实现弯道超车。