说到芯片代工市场，人们会想到台积电、三星，这是因为台积电、三星芯片代工实力相差不大，二者并没有技术的代差。以3nm工艺为例，三星率先发布了3nm工艺，但其良品率较低，时至今日三星仍未大规模量产3nm芯片。

虽然台积电的3nm工艺发布时间稍晚三星半年，但台积电3nm芯片良品率超过70%，因此台积电给苹果生产了3nm工艺的A17pro芯片。由此可见，在芯片代工领域，台积电和三星你追我赶，二者呈现齐头并进趋势。

同样是半导体市场的重要领域，光刻机领域就显得有些单调了。究其原因是ASML在光刻机领域一家独大，没有任何厂商可以和ASML抗衡。为什么这样说呢？我们看看ASML在光刻机市场的地位。

在浸润式DUV光刻机领域，ASML生产了全球60%以上的先进光刻机。而在EUV光刻机领域，ASML更是拥有全球100%市场份额，因为全球仅有ASML一家能生产EUV光刻机。

毫不夸张的讲，但凡ASML打一个喷嚏，那么台积电、三星等芯片代工厂商就会感冒，这体现了ASML在光刻机市场充足的话语权。

正因为ASML在光刻机市场重要的地位，美方对ASML的限制要远多于台积电、三星的限制。为此，ASML也非常无奈，多次表达了不满，甚至在光刻机新总部上，ASML也多次发生变动，以此来表达对美方的不满。对此，有外媒表示:光刻机总部再一次出现反转了。

近几年我国半导体产业发展迅猛，大有赶超美方趋势。作为半导体行业的“掌门人”，美方自然不会眼睁睁看看我国在半导体产业取得高速的发展。为此，美方通过ASML对我国半导体产业进行打压。

第一次打压是美方要求荷兰官方限制对中企出口EUV光刻机，据悉，2018年的时候我国中芯国际向ASML采购了一台EUV光刻机，但美方通过对荷兰施压，停止了这台EUV光刻机出售许可。自此以后，中企再也不能从ASML那里获得EUV光刻机，这大大延缓了我国7nm芯片工艺的研发。

第二次打压是美方联合荷兰、日本组成“三方联盟”，限制日本、荷兰对中企出售浸润式DUV光刻机。2022年的时候美方联合荷兰、日本组成封锁联盟，限制日本佳能、尼康，荷兰ASML向中企出售中高端DUV光刻机。

而日本相关部门在2023年7月正式对45nm以下DUV光刻机进行出口管制。而荷兰相关部门也在2023年9月对2000i及2000i以后光刻机进行出口管制。

美方的这一打压再次限制了中企获得中高端DUV光刻机的渠道，这对我国14nm芯片的量产产生了极大的负面影响。

第三打压是美方中止了ASML在2024年的光刻机许可，这让ASML非常恼火。在2023年9月份的时候荷兰相关部门制定了2000i型及2000i型以后光刻机出口管制，但ASML为了中企的订单向荷兰相关部门申请了出口许可。在出口许可的帮助下，中企从ASML采购了大量的2000i型及2000i光刻机，采购数量同比增长了3倍。

本以为这个出口许可可以长久下去，却不想美方再次施压，这项出口许可在2024年初被取消。

不难发现，ASML在美方、荷方的双重压力很是无奈，正常经营难以维持，需要在美方、荷方的“指手画脚”下进行。为此，ASML决定要搬离光刻机总部，以此实现人才招纳和提升独立自主性。

有消息表明ASML准备把光刻机新总部搬到法国，毕竟法国独立自主性非常强，对美方的压力并不感冒。最为重要的是法国包容性非常强，在人才招募方面具备非常大的优势。

当然了，ASML方面也爆出消息，将会把光刻机新总部搬到不丑国，毕竟美方总是对荷方施压，荷方总是跟随美方脚步。既然如此，ASML把光刻机新总部搬到不丑国，那么美方会给ASML更多优惠政策，这对ASML的发展起到正面作用。

正当大家对ASML光刻机新总部众说纷纭的时候，荷方拿出25亿美元挽留ASML，并给ASML新总部的建造提供了多项便利。为此，ASML官方表示光刻机新总部依然在荷兰本土，不会搬离法国和不丑国。

写在最后

近几年ASML在美方、荷方的双重压力对中企实施打压，限制EUV光刻机、DUV光刻机出售给中企，这对中企、ASML而言是双输局面。虽然ASML通过光刻机新总部选址问题表达了自己的不满，但这并不能改变ASML目前的处境。正因为如此，有外媒才表示:光刻机新总部果然再一次反转。

很显然，面对光刻机出口许可问题，光刻机新总部并不能改变ASML的话语权，这也是ASML把光刻机新总部放在荷兰本土的根本原因。基于此，中企依然要坚持自主研发，而不是把获得先进光刻机的希望放在ASML身上。