麒麟芯片的强势回归引起了国际社会的广泛关注，不少人都认为中国芯已经完成了先进制程技术的突破，只不过想要在没有EUV光刻机的情况之下制造出5nm芯片还是需要解决不少问题。

可是让人没有想到的是，近期台积电前任副总裁林本坚发声表示：中国可以使用现有的设备继续推进到5nm制程。这个消息称传出之后也引起了国际社会的广泛关注，对此有不少外国媒体都纷纷表示：华为成功突围了。

林本坚发声：中国芯将推进到5nm制程

美国试图通过限制光刻机、晶圆检测设备等半导体设备，将中国芯排除在世界芯片供应链之外的方式来遏制住中国芯的发展。

要知道，芯片是一个全球化分工的产业链，任何一个国家想要打造出完整的芯片产业链都并非是一件容易的事情。美国也是这么认为的，可是显然美国高估了自身在半导体领域的影响力，也低估了中国实现芯片国产化自足的决心。

华为麒麟芯片的强势回归引起了全球的广泛关注，虽然美国经过一个月的调查也没有发现麒麟9000s芯片到底是哪个中国厂商使用什么技术生产出来的，不过美国可以确定的一点的是麒麟9000s是中国厂商生产出来的7nm制程芯片。

更让美国难受的是，美国媒体彭博社在近期报道：被称为“浸没式光刻机之父”的台积电前研发副总裁林本坚仔技巧你接受采访的时候表示：中国大陆可以利用现有设备继续推进5nm制程。这也就意味着，中国芯突破7nm制程之后，很有可能将继续突破5nm制程，到时候在先进芯片领域中国厂商也拿到了“入场券”。

林本坚是台积电的前任研发副总裁，也是ASML的“贵人”，正是林本坚推荐ASML使用浸没式光刻机技术，才帮助ASML将光刻机制程推进了6个世代。当时的光刻机霸主其实并非是ASML，而是日本的尼康和佳能。

只不过尼康和佳能认为干式光刻机技术要比浸没式光刻机技术更加适合未来的发展，因此并没有接受林本坚的推荐。毫无疑问，从这一番经历就不难看出，林本坚在浸没式光刻机方面拥有不小的话语权。

外媒：华为成功突破了

此前林本坚就曾认为中国芯可以依靠浸没式DUV光刻机实现7nm芯片的生产，这其实比较符合大多人的观点。毕竟一开始在EUV光刻机研发成功之前，台积电就曾通过多次曝光的方式使用浸没式DUV光刻机制造出7nm制程的芯片。只不过多次曝光对良品率有所影响，并且成本也较高，所以很少有厂商使用。

林本坚这次公开表示中国芯可以借助现有设备，也就是浸没式DUV光刻机实现5nm芯片制造，这其实也并非是“信口开河”，而是有理论和技术依据的。使用浸没式DUV光刻机制造5nm制程芯片，需要更加复杂的光刻机技术，要做到双重、三重甚至是多重图案化。

在生产过程当中，需要将一个图案分成几个部分，然后按照顺序印刷图案。这可能会影响到的芯片的产能和良品率，良品率大概只有50%左右，并且技术难度很大。不过对于缺少先进EUV光刻机的中国芯而言，哪怕只有50%的良品率也能够实现盈利，更何况中国芯目前的技术水平完全能够完成这个目标。

从林本坚的发声来看，基本上他是认为麒麟芯片是使用ASML的浸没式DUV光刻机生产出来的。这也就意味着，华为的麒麟芯片目前产能达到7000万枚左右是没有丝毫压力的，毕竟中芯国际目前的光刻机设备完全能够满足这种需求。

不过由于华为目前尚未公开芯片代工企业的相关信息，所以无法确定麒麟芯片究竟是如何生产出来的。也有可能是采用国内设备厂商出货的光刻机设备制造，毕竟此前上海微电子就有传出消息，申请了光刻机的相关专利。

不过无论麒麟芯片是如何生产出来的，都意味着中国芯已经迈入了一个新的发展阶段，接下来就是期待中国芯突破5nm制程了。

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