日本官民合作设立的芯片代工厂Rapidus正在北海道千岁市兴建工厂、目标2027年量产2纳米（nm）芯片。而Rapidus订购的极紫外光（EUV）微影设备将在12月中旬送抵北海道新千岁机场，这将是日本国内导入的第一台EUV微影设备。

日经新闻14日报道，将设置在Rapidus北海道工厂的EUV微影设备将在12月中旬送抵北海道新千岁机场，这将是日本国内导入的第一台EUV微影设备、将利用多架大型货机运送。

EUV微影设备是量产最先进芯片所不可或缺的，1台售价数百亿日元，Rapidus未来规划导入数台EUV设备。生产EUV设备的艾司摩尔（ASML）将在千岁市内设置服务据点。

据报道，Rapidus计划在2025年4月试产2纳米芯片，据社长小池淳义指出，包含EUV设备在内、北海道工厂内“将导入2百多台设备”。据千岁市指出，工厂工程进度（10月底）为63%、照计划进行。在11月中旬时、有约4,400名工人参与工厂兴建。

（首图来源：Rapidus）