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第八届国际碳材料产业展览会

鹏城半导体技术（深圳）有限公司

展位号：W1B16

鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于市场前沿、产业前沿和技术前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。

公司核心业务是微纳材料（含半导体材料）、微纳制造工艺、微纳装备的研发设计和生产制造。

科研型设备：PVD、CVD、MBE分子束外延等。

工业生产型设备：大型蒸镀设备、多弧离子源镀膜设备、矩形磁控溅射镀膜设备、电子束蒸发设备、OLED镀膜设备、HFCVD热丝化学气相沉积设备、真空高温CVD炉、六英寸MBE生产设备。

公司技术和产品可以广泛应用于：新材料、新能源、微电子光电子、半导体、声学、光学、微机电系统（MEMS）；传感器、生物医学、精准医疗、大健康、环保、微纳机器人、表面技术等领域。

公司核心研发团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队，还有来自工业界的高级装备设计师团队。公司团队具有20多年的微纳材料与器件研究（含半导体材料）、PVD/CVD沉积技术研究、外延技术研究、薄膜制备成套装备设计和生产制造的经验。

产品展示

HFCVD热丝化学气相沉积设备

研发设计制造了热丝CVD金刚石设备，分为实验型设备和生产型设备两类。设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。可用于力学级别、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。

可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片，用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。可用于生产制造防腐耐磨硬质涂层；环保领域污水处理用的金刚石产品。可用于平面工件的金刚石薄膜制备，也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。可用于太阳能薄膜电池的研发与生产。

金刚石薄膜生产线

高真空磁控溅射仪（实验型、生产型）

高真空磁控溅射仪是用磁控溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。

分子束外延薄膜生长设备（MBE）

分子束外延薄膜生长设备（MBE）可以在某些衬底上实现外延生长工艺，实现分子自组装、超晶格、量子阱、一维纳米线等。可以进行第二代半导体和第三代半导体的工艺验证和外延片的生长制造。分子束外延薄膜生长设备在薄膜外延生长时具有超高的真空环境，是在理想的环境下进行薄膜外延生长，它可以排除在薄膜生长时的各种干扰因素，得到理想的高精度薄膜。

我公司设计制造的分子束外延薄膜生长实验设备，分实验型和生产型两种，配置合理，结构简单，操作方便，技术先进，性能可靠，用途多，实用性强，价格相对较低，可供各大学的实验室及科研机构作为分子束外延方面的教学实验、科学研究及工艺实验之用。

生产型MBE可用于批量外延片的制备。

PECVD等离子体增强化学气相沉积

PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。

真空高温CVD炉

真空高温CVD 炉，采用高温化学气相沉积的方法，在工件表面沉积种薄膜，在半导体工业中应用非常广泛，包括沉积大面积的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料，例如：碳化钽涂层、碳化硅涂层材料。例如：可在石墨工件表面沉积碳化钽涂层和碳化硅涂层。

适用于生产企业及各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。

第八届国际碳材料大会暨产业展览会将于2024年12月5-7日在上海举办！鹏城半导体技术（深圳）有限公司邀您共聚上海新国际博览中心，展位号W1B16，不见不散！

第八届国际碳材料大会暨产业展览会（Carbontech 2024）将于12月5-7日在上海新国际博览中心W1、W2、W3馆盛大举行，本届展会预计展出面积40,000m2，汇集超800家全球碳材料产业链上下游厂家。同期举办主题论坛9场，闭门研讨会1场，吸引来自金刚石、超精密加工、石墨烯、碳纳米材料、碳纤维及其复合材料、碳碳复合材料、新能源碳材料等领域超50,000国内外采购商莅临现场，为全球买家打造一个专业、创新、交流的全产业链合作盛宴。