全球光刻机技术能够发展到今天，要感谢一位华裔。光刻机被称为“工业皇冠上的明珠”，正是有了顶级光刻机的出现，才让芯片取得了突飞猛进的发展，甚至发展到了3nm、2nm时代。而全球最顶级的光刻机企业，就是荷兰的ASML。其实当初ASML在英特尔、日本尼康等光刻机巨头面前，只不过是个“小弟”。当时各大光刻机巨头都在使用把空气作为镜头与晶圆之间介质的干式光刻技术。在2002年的美国芯片研讨会上，有一个叫林本坚的华裔谈起了浸润式光刻技术，就是用水来取代空气，这样可以达到更先进的制程。这本来是一项突破性的技术，但是各大巨头都没有把这个华裔的话放在心里，或者说他们对自己的技术优势太过自信，不想要轻易的改变。而当时还是一家小公司的ASML则认为，与其在光刻机巨头的夹缝中生存，不如背水一战。于是ASML把全部身家都押在了林本坚的浸润式光刻技术上。ASML的选择是正确的。后来靠着浸润式光刻技术，ASML一举把光刻机制程突破到132nm，连尼康都被远远的甩在了后面。所以说林本坚是ASML的“贵人”，更是为全球光刻机技术做出了杰出的贡献。这就是人才的重要性。中国从来不缺人才，所以无论是芯片还是光刻机，只要是中国人想做的，就一定能取得成功！不知道大家怎么看呢？