近日，网络上掀起了一场轰动的风暴，引发了广泛的热议，讨论的焦点是华为Mate60Pro手机所配备的神秘麒麟9000S芯片。尽管这款芯片的具体细节仍然是一个谜，但它仍代表了华为麒麟系列芯片的新突破，树立起国产芯片领域的新标杆。然而，就在这个兴奋的时刻，我开始思考一个看似并不相关但却十分重要的问题，即国内光刻机行业可能面临的挑战。光刻工艺在现代芯片制造中扮演着至关重要的角色，而在光刻工艺中，光刻机和光刻胶的作用不可忽视。

晶圆厂需要在硅晶圆上涂覆光刻胶，为后续的光刻制程做准备，这一步骤至关重要。光刻胶分为不同类型，包括g线、i线、KrF、ArF和EUV，各自适用于不同的工艺需求。其中，ArF光刻胶被广泛用于高端芯片制程，包括ArF干式用于130-65nm工艺，以及ArFi用于45nm-14nm工艺。而EUV光刻胶则适用于EUV光刻工艺，主要用于7nm以下的工艺制程。然而，令人担忧的是，国内目前在光刻胶自给率方面还存在巨大的挑战。

根据2022年的数据，日本企业在g线/i线、KrF、ArF、EUV光刻胶市场的市占率高达60%、80%、93%和100%，合计占据了光刻胶市场75-80%的份额。相比之下，国内光刻胶的自给率较低，ArFi和EUV光刻胶需完全依赖进口，而ArF光刻胶也有90%以上依赖进口，只有g线/i线和KrF光刻胶的自给率较高。考虑到麒麟9000S芯片可能需要使用ArFi光刻胶，即45-7nm工艺级别的光刻胶，我们必须迅速解决这一技术难题，否则可能会陷入双重困境。

尽管目前尚未有来自日本的光刻胶出口限制，但考虑到日本此前对韩国的行动以及与美国在半导体设备领域的合作，未来的形势仍然不容乐观。因此，国内光刻胶自给率的问题迫在眉睫，我们亟需突破技术壁垒，以确保国内半导体制造业的可持续发展。综上所述，随着华为Mate60Pro手机搭载麒麟9000S芯片的发布，国产芯片领域迎来了新的机遇与挑战。我们迫切需要提高光刻胶的自给率，确保光刻技术不成为制约我国半导体产业发展的瓶颈，而要成为我国半导体产业崭露头角的力量，这将对我国科技自主创新产生深远影响。